Samsung aloitti tuotannon 7 nm tekniikalla – Uusi valmistusmenetelmä käyttöön

Elektroniikkajätti Samsung kertoo aloittaneensa puolijohdetuotteiden massatuotannon uudella 7 nanometrin prosessilla. Tuotantoprosessissa hyödynnetään ultraviolettilitografiaa (EUVL, extreme ultraviolet lithography), minkä ansiosta prosessiketju on yksinkertaisempi ja vähemmän altis virheille.

TSMC ehätti aloittaa tuotannon 7 nanometrin prosessilla jo aiemmin, minkä johdosta uusissa iPhoneissa käytettävät A12 Bionic -prosessorit on voitu valmistaa uudella 7 nm:n tekniikalla. Lisäksi Huawein uusissa puhelimissa käytettävä Kirin 980 -piiri on valmistettu TSMC:n 7 nanometrin prosessilla.

Samsungin mukaan 7LPP-tuotantotekniikka mahdollistaa 40 prosenttia pienemmän pinta-alan sekä 50 prosenttia alhaisemman tehonkulutuksen 10 nanometrin prosessiin nähden, kun kellotaajuudet ja piirit ovat kompleksisuudeltaan samankaltaiset. Vaihtoehtoisesti pinta-alan pienenemisen lisäksi suorituskykyä kasvaa 20 prosentilla, kun tehonkulutus ja kompleksisuus ovat samalla tasolla.

Samsungin tavoitteena on aloittaa tuotanto 5/4 nanometrin prosessilla jo ensi vuonna, mutta jo vuonna 2020 yhtiö tarkoituksena on siirtyä 3 nanometriin ja ottaa käyttöön uudet GAA-tyyppiset transistorit.

• EUV
• 7 nm
• Samsung